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9月17日消息，曝中據報道，芯國中芯國際正在測試由上海初創公司宇量昇生產的際測機深紫外線（DUV）光刻機，正測試的試首生產光刻機采用浸沒式技術，類似于ASML所采用的款國技術。

過去，光刻中芯國際高度依賴從荷蘭半導體設備大廠ASML進口的曝中DUV，但是芯國近年來由于美國的出口管制，只能獲得較舊設備。際測機

知情人士透露，試首生產中芯國際正在測試一臺28納米的款國DUV設備，并利用多重曝光來生產7納米芯片。光刻

據透露，曝中中芯國際試用的芯國這類設備也能被推向極限以生產5納米處理器，但良率會偏低，際測機無法再進一步制造更先進的產品。

報道稱，如果能夠量產先進的DUV光刻機，這將是中國大陸突破美國芯片出口管制的重大勝利，不僅能減少對西方技術的依賴，還能提升先進AI處理器的產能。

還有分析師表示：“如果測試成功，這將是中國企業的重要一步，未來可在此基礎上推進更先進的設備。”